ウェハーを温めるのではなく、装置自体を温めるのはやめましょう。
もし、従来の対流式や全方位加熱器を半導体処理用の装置に使ったことがあるなら、その手間の多さをよく知っているはずです。たくさんのエネルギーを消費しても、その半分は装置の内壁に吸収されてしまいます。
これは非常に非効率的です。装置のチassisに負荷がかかり、何よりも、作業員は巨大なラジエーターの周りで作業をしなければなりません。これは安全でもなく、効率的でもありません。
私たちは、より良い方法を見つけました。それが方向性赤外線加熱です。
なぜ方向性加熱が有効なのか
一般的なヒーターは、エネルギーを360度全方向に放出します。しかし、私たちは違う方法を用いています。短波長の石英管と精密な反射器を使って、熱を特定の方向に集中させます。空気を温めるのではなく、エネルギーを直接ウェハーキャリアや基板上に送り込みます。そうすることで、熱は目的の場所に留まり、空気中や金属に吸収されることはありません。
その結果、装置内部の温度を適切に保つことができ、一方で装置の外側は触っても冷たく保たれます。
注意点と解決策
ただし、この方法にはいくつかの課題があります。短波長赤外線は非常に強力なため、すぐに温度が上昇します。しかし、その強度のため、正確な調整が必要です。もし反射器の角度が数度でもずれてしまうと、装置の内壁に「ホットスポット」ができてしまいます。
そのため、私たちはハードウェアの精度にこだわります。反射器は精密に加工され、しっかりと固定されていなければなりません。もし正確に調整されていなければ、システムは機能しません。
作業環境の改善
方向性赤外線加熱に切り替えることで、「オーブン効果」がなくなります。クリーンルーム内に超高温の空気が渦巻くこともなくなります。これはHVACシステムにとって大きな利点です。また、作業員も装置の表面に触れて怪我をする心配がなくなります。これは、作業効率を向上させるだけでなく、作業環境を安全にする簡単な方法です。