赤外線と熱風：クリーンルームでの無駄な時間を削減しよう
半導体の高度な処理工程を行っている方なら、時間が最も大きなコストであることはご存知でしょう。
現在でも、多くの古い設備では依然として熱風を利用しています。これは昔ながらの方法です。大量の空気を加熱し、それをダクトを通して送り込み、その後はただ待つだけです。基板に熱が届くのを待つのです。
これは非常に遅い方法です。この業界では、遅いということはコストがかかるということです。
「即時稼働」の利点
ここで役立つのが赤外線ランプです。
赤外線は空気を使わないため、エネルギーを伝えるための媒体は不要です。代わりに、電磁波を直接ワークピースに送り込みます。
まるで寒い日に太陽の光が肌に当たるようなものです。空気が温まるのを待つ必要はなく、すぐに熱を感じることができます。
クリーンルーム内に赤外線ランプを設置すれば、スイッチを入れた瞬間に目的の表面に熱が届きます。ウォームアップに時間がかからず、オーブンが所定の温度に達するのを待つ必要もありません。これにより、処理時間が大幅に短縮されます。
スペースの有効活用
クリーンルームでは常にスペースが限られています。
エアブロワーやダクトはかさばり、余計なスペースを占有します。一方、赤外線ランプはコンパクトで、ベンチの真上に簡単に設置できます。
ただし、注意すべき点があります。それは「ホットスポット」です。
赤外線は集中力が高いため、ランプの配置には注意が必要です。ワット数や距離を適切に設定しないと、ウェハー上で均一に加熱されない可能性があります。少し調整すれば完璧になりますが、一度設定すれば問題ありません。
なぜ切り替えるのか？
赤外線を使う方が合理的です。装置の占めるスペースが少なくなり、エネルギーの無駄もなくなります。熱風を使う場合、多くの熱が壁や天井に逃げてしまいます。しかし赤外線を使えば、エネルギーは正しく目的の場所に行きます。
ちなみに、PIDコントローラーの設定も見直す必要があります。赤外線は空気よりもはるかに反応が速いからです。古いタイミング設定をそのまま使うと、目標温度を超えてしまい、製品を台無しにしてしまう可能性があります。より迅速な反応を得るために設定を変更すれば、処理速度が即座に向上します。