リソグラフィーフロアにおいては、ウェハ全体にわたるPEBの温度均一性が、実際にCDコントロールやオーバーレイを決定する要素です。わずか数十分の1度の温度変動であっても、フォトレジストの化学的な増幅効果が乱れ、バイアスが変化し、エッチングの選択性も変わってしまいます。その結果、露光や計測に何時間もか...

ファブフロアにおいて、ソフトベイクの温度が0.2℃ずれるだけで、大量のスクラップが発生する可能性がある。フォトレジストのエッジ部での薄化、クリティカル寸法の拡散、リソグラフィの能力が無駄になるのを目撃することになる。このベイクランプは、その温度ドリフトが現れる前に防ぐために設計された。 技術的に重...