在光刻生产中，决定CD控制精度和图形对准效果的关键因素，其实是晶圆表面的PEB温度均匀性。哪怕只有几十分之一的度数偏差，都会影响光刻胶的化学放大效果、改变偏压值，进而影响蚀刻的选择性。这样一来，原本需要数小时才能完成的曝光和测量工作就白费了。 从技术层面来看，什么才是重要的？ 我们设计的PEB加热...

在晶圆厂车间，软烘烤温度漂移0.2°C就可能报废大量产品。边缘光刻胶变薄，关键尺寸扩散，光刻产能白白浪费。这款烘烤灯旨在防止这种漂移出现。 技术关键在于，我们围绕晶圆设计烘烤曲线，而非仅针对腔体。该灯在整个晶圆直径范围内保持±0.1°C的热均匀性，响应快速且批次间重复性高。碳纤维加热元件和近红外光...