Op de productieplek is de baktijd cruciaal voor de kwaliteit van het eindproduct. Een te zachte baktemperatuur leidt tot afwijkingen van 2°C, waardoor de belangrijkste afmetingen van het product in nanometerniveau afwijken. Een te hoge baktemperatuur die niet uniform is, zorgt weer voor problemen met de hechting van de lagen op het oppervlak van het product. Optische verwarmers lossen dit probleem op door een nauwkeurige temperatuurregeling mogelijk te maken; het product zelf fungeert hierbij als sensordoelwit.
Wat belangrijk is: We hebben deze optische verwarmers ontworpen met behulp van kortegolfrood infraroodlicht en kwartsramen. Dit zorgt voor een uniforme temperatuur over het hele actieve gebied van het product, met een afwijking van maximaal ±0,1°C. De stabiliteit van de temperatuur onder belasting is beter dan ±0,5°C. De snelheid waarmee de temperatuur kan worden verhoogd, is zelfs 10°C/s. Hierdoor wordt de warmtestress verminderd, zonder dat de lagen op het oppervlak van het product worden beschadigd.
Deze apparaten zijn geschikt voor gebruik in cleanrooms van klasse 1 tot 100. We controleren of er geen deeltjes vrijkomen, met behulp van in-line metingstechnologieën. De reproduceerbaarheid is beter dan 0,2°C na 500 cycli. De apparaten kunnen dag in, dag uit worden gebruikt in grote productielijnen, zonder onverwachte stilstand.
Waarom dit geschikt is voor lithografie en het baken van producten: Bij lithografie en het verwerken van fotoresistenten is het nodig dat de hitte snel wordt toegepast, stabiel blijft en geen schade veroorzaakt. Met optische verwarming wordt het product rechtstreeks verwarmd, in plaats van de kamers. Hierdoor worden de tijd die nodig is voor het proces verkort en verdwijnen de temperatuurschommelingen.
Het resultaat is een betere controle over de afmetingen van het product, minder herwerkingswerk en minder afval. De energieverbruik wordt met maar liefst 30% verminderd vergeleken met conventionele verwarmingssystemen. Bovendien zijn er minder vervangbare onderdelen nodig, omdat er geen slijtage optreedt door contact met het product. Zowel bij zachte als harde baktemperaturen wordt er een groter procesbereik bereikt, zonder dat er extra thermische stress ontstaat.
Praktische tips: Deze verwarmers hebben een stabiele stroomvoorziening en nauwkeurige optische alignment nodig om een uniforme temperatuur te behouden. Ze zijn bedoeld voor wafers van 150/200/300 mm en kunnen worden geïntegreerd in standaardsystemen via SECS/GEM. Controleer eerst of uw apparaat in staat is om te communiceren met deze systemen.
Plan voor een korte testperiode om de juiste instellingen vast te stellen. Eenmaal deze instellingen zijn vastgesteld, blijft het proces stabiel.