Op de 300 mm-lijn kan een dunne laag water die na het schoonmaken achterblijft, de productiecapaciteit ernstig beperken. Restanten van vocht verstoren het profiel van de fotoresistentie, en ongelijkmatig drogen betekent dat er gemakkelijk deeltjes kunnen ontstaan.
Om dit te voorkomen hebben we een infraroodpaneel ontwikkeld dat speciaal is ontworpen voor het drogen van wafers. Hierbij wordt in plaats van warmte op grote schaal, gecontroleerde energie gebruikt om de wafer te drogen, zonder dat de film beschadigd raakt.
Het paneel maakt gebruik van kortegolf-infraroodemitters, die zich bevinden in aparte zones. Elke zone zorgt ervoor dat de temperatuur op het oppervlak van de wafer binnen ±0,1°C blijft. Hierdoor blijft de thermische controle nauwkeurig en herhalbaar.
De kwartsoppervlakte en het afgesloten behuizing zorgen ervoor dat er geen deeltjes worden gegenereerd. Dit zorgt voor een zuivere omgeving, conform de standaarden van klasse 1–100. De uitputting per zone ligt tussen 200 W en 1,2 kW. Het paneel is ontworpen om 24/7 te werken, zonder onverwachte stilstanden.
De temperatuurregeling past zich aan aan de benodigde tijd voor het drogen van de fotoresistentie. Hierdoor wordt er geen overdracht van warmte tot stand gebracht. In praktijk betekent dit minder herwerkingen en een betere controle op de cruciale dimensies. Je kunt de productiecapaciteit verhogen zonder dat er defecten optreden. Bovendien wordt er minder energie verbruikt, omdat de warmte alleen wordt toegepast waar dat nodig is.
Voor het drogen na het schoonmaken en voor het verwerken van de fotoresistentie zorgt het paneel ervoor dat de wafer droog blijft, het profiel van de fotoresistentie intact blijft en de productielijn soepel kan blijven draaien.
De installatie is eenvoudig, maar het is belangrijk om het paneel goed te positioneren. Het moet precies passen bij de positie van de wafer en de afvoergestructuur. Anders zal er weer vocht ontstaan.
Het paneel kan worden geïntegreerd in standaardinterfaces. Er is echter wel een apart koelsysteem nodig om de temperatuur van de emitters stabiel te houden. Met deze oplossing kan het paneel elke shift opnieuw worden gebruikt.