Op de lithografiefaciliteit is de temperatuuruniformiteit over het oppervlak van de wafer degene die bepalend is voor de controle van de CD-waarde en de kwaliteit van het eindproduct. Zelfs een verschil van een paar tiende graden kan de chemische reacties van de fotoresist verstoren, de spanningen veranderen en de selectiviteit bij het eten beïnvloeden. Hierdoor moet er veel tijd worden besteed aan belichting en meting, zonder dat dit tot een goed resultaat leidt.
Wat technisch gezien belangrijk is: We proberen de temperatuur rondom de wafer op ±0,1°C te houden. De temperatuur van de fotoresist wordt ook constant gehouden gedurent het hele proces. De platform kan zowel een zachte als een harde bakprocedure uitvoeren, met constante snelheden. Hierdoor hoeft men zich geen zorgen te maken over temperatuurverschillen tussen verschillende batches.
Quartz-halogeenemitters zorgen voor een snelle en nauwkeurige reactie. De geometrie van de hete zone is zo ontworpen dat de evenwichtssituatie over het hele oppervlak van de wafer behouden blijft. In cleanrooms van klasse 1–100 gebruiken we materialen met weinig emissie, zodat er geen deeltjes worden gevormd tijdens het gebruik. Hierdoor blijven de deeltjekwantiteiten binnen de vereiste grenzen, zonder dat er extra filtering nodig is.
Het apparaat is ontworpen om 24/7 te werken, zonder onverwachte stilstand. De energieverbruiksprofilen worden zo gemanageerd dat de kosten per wafer stabiel blijven.
Waarom het apparaat werkt in een echte fabriek: Het is belangrijk dat de bakprocedure op elk moment van de dag hetzelfde werkt, ongeacht de tijd van dag of nacht, of de grootte van de wafer. Dit apparaat zorgt ervoor dat de controle van de CD-waarde en de kwaliteit van het eindproduct constant blijven. Hierdoor zijn er minder herwerkingsbeurten nodig, en kan de productietijd beter worden gepland.
Wat je van tevoren moet weten: De installatie vereist nauwe integratie met de thermische interfaces en het afvoersysteem van het apparaat. Er moet eerst een kort alignement worden uitgevoerd, evenals het bepalen van het juiste bakprofiel voor elke fotoresistlaag. Eenmaal dit gedaan is, wordt de herhaalbaarheid van het apparaat groter, waardoor er minder instellingen nodig zijn. Maar deze initiële kalibratie is niet verplicht.