Op de productielijn kan een verschil van 1°C tijdens het ‘soft bake’ of ‘hard bake’proces leiden tot kleine afwijkingen in de belangrijkste afmetingen van de componenten. Dat kan al voldoende zijn om veel producten te verpesten. We hebben onze reflector zo ontworpen dat deze de onzekerheden die voortkomen uit thermische effecten wegneemt.
Wat er echt toe doet De reflector is aangepast voor kortegolfroodhalogeenlampen. Hierdoor wordt er snelle, gerichte energie gegenereerd, met nauwkeurige controle over het spectrum. De temperatuur op het waferoppervlak blijft binnen ±0,1°C, wat perfect is om consistente resultaten te boeken bij het verwerken van fotoresists. Het substraat is gemaakt van kwarts: dit materiaal biedt een stabiele reflectie en heeft nauwelijks uitstoot van gasen. Bovendien behoudt het zijn reflectie eigenschappen na duizenden thermische cycli. Het product is geschikt voor gebruik in cleanrooms van klasse 1–100. De constructie zorgt er ook voor dat er geen deeltjes worden gegenereerd, zodat de oppervlakken schoon blijven. De output blijft binnen 2% gedurende meer dan 5.000 uur, zodat de lamp continu kan werken.
Waarom dit belangrijk is in de lithografie Bij het ‘soft bake’proces worden oplosmiddelen verwijderd en worden spanningen in het filmpje verminderd. Tijdens het ‘hard bake’proces wordt het patroon vastgezet, voordat er wordt geëtst of geïmplanteerd. Onze reflector zorgt ervoor dat beide stappen goed verlopen. Hierdoor neemt de variatie in lijndikte af en moet er minder worden herwerkt. Een snellere thermische reactietijd verkort de tijd die nodig is voor het proces, zonder dat de controle over het patroon verloren gaat. De energie komt precies waar het nodig is, waardoor er minder warmteverlies is en de energiekosten dalen. Het resultaat is consistente controle over de belangrijkste afmetingen, minder defecten en betrouwbare productietijden.
Praktische details Voor de installatie is nauwkeurige optische alignering met de as van de lamp noodzakelijk. Zelfs een misaligning van 1–2 graden kan leiden tot hot spots op het waferoppervlak. De reflector past in standaard lampen, maar bij integratie moet rekening worden gehouden met de positie van de lamp en de geometrie van het ventilatiesysteem. De levensduur van de reflector hangt af van de vermogensdichtheid van de lamp. Daarom moet de reflector worden gekozen die past bij de lamp. In productielijnen met hoge capaciteit moet regelmatig worden gecontroleerd of de reflectie nog steeds optimaal is.