Stop met het verspillen van warmte in je wafergereedschap
Laten we eerlijk zijn: energie verspillen in een halfgeleidergereedschap is gewoon slecht ontworpen. Wanneer je hoge-sterkte verwarmingscomponenten gebruikt, verdwijnt het grootste deel van die energie meestal zomaar. Die energie lekt weg naar de behuizing of wordt gereflecteerd, zonder enig effect op je proces te hebben.
We lossen dit op met goudcoateerde reflectoren. Het klinkt misschien fancy, maar het doel is simpel: de infrarode stralen weerkaatsen en ze rechtstreeks op de wafer sturen.
Waarom goud?
De meeste mensen gebruiken standaard kwarts- of keramische reflectoren, maar deze laten te veel warmte ontsnappen naar de behuizing. Wij gebruiken een dunne laag hoogzuiver goud, omdat dit materiaal uitstekend is in het weerkaatsen van infrarood licht.
In plaats van dat de behuizing de energie opneemt, worden de fotonen rechtstreeks teruggeduwd naar waar ze horen te zijn. Hierdoor wordt de wafer heter, zonder dat je de spanning hoeft op te drijven en je systeem onder druk te zetten.
Het gaat om de efficiëntie
Hoge vermogens zijn fijn, maar ze zijn nutteloos als ze niet efficiënt worden gebruikt. We passen de vorm van de goudreflectoren aan, zodat de warmtestraling meer geconcentreerd wordt. Dit heeft twee voordelen: ten eerste bereik je eerder de gewenste procestemperatuur. Ten tweede wordt alles meer gelijkmatig. Er zijn geen irritante ‘ hete plekken’ meer die hele batches wafer kunnen beschadigen. Het systeem werkt daardoor stabielere.
De nadelen
Goud is echter niet onbreekbaar. Het is gevoelig voor schade. Je mag het niet schoonmaken met schurende middelen of het mag niet beschadigd raken. Als de coating loskomt of vervuild raakt, neemt de reflectiviteit af en nemen de procestijden toe.
Om het apparaat in bedrijf te houden, moet je goed opletten met de vacuüm- of inerte-gasomgeving. Als je met een hoge productiesnelheid werkt, is het belangrijk om regelmatig je reflectoren te controleren. Het is veel gemakkelijker om snel een controle uit te voeren dan om achteraf vast te stellen waarom de thermische parameters veranderen tijdens het proces.