300mm 웨이퍼 처리 과정에서, 세척 후에도 남아 있는 얇은 물방막은 생산 효율을 크게 저하시킵니다. 잔류 수분은 포토레지스트의 형태를 왜곡시키며, 불균일한 건조는 입자 생성의 원인이 됩니다.
이 문제를 해결하기 위해 우리는 구역별로 제어되는 적외선 패널을 개발했습니다. 이 패널은 광범위한 열을 사용하는 대신, 제어된 에너지를 사용하여 웨이퍼를 건조시키므로 포토레지스트에 부담을 주지 않습니다.
이 패널은 단파 적외선을 사용하며, 각 구역은 독립적으로 제어됩니다. 각 구역에서는 웨이퍼 표면의 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지되므로, 열 관리가 용이해집니다.
쿼츠로 만들어진 표면과 밀폐된 구조 덕분에 입자가 전혀 발생하지 않으며, 이를 통해 클린룸 등급 1~100을 유지할 수 있습니다. 각 구역의 출력은 200W부터 1.2kW까지 안정적이며, 24/7 연속 가동이 가능합니다.
온도 제어 기능 덕분에 포토레지스트의 건조 과정이 일관되게 진행됩니다. 실제로 이를 통해 재작업이 줄어들고, 중요한 치수 제어도 더욱 정확해집니다. 필요한 곳에만 열이 가해지므로 에너지 소비도 줄어듭니다.
세척 후 건조나 포토레지스트 처리 과정에서 이 패널은 웨이퍼를 건조하고 포토레지스트의 형태를 그대로 유지해줍니다.
설치는 간단하지만, 패널의 정렬은 반드시 신경 써야 합니다. 패널은 웨이퍼의 이동 경로와 배기 구조에 맞게 정확하게 위치해야 하며, 그렇지 않으면 다시 수분이 생길 수 있습니다.
이 패널은 표준 인터페이스와 호환되지만, 에미터의 온도를 안정적으로 유지하기 위해서는 별도의 냉각 시스템이 필요합니다. 이러한 요소들을 고려한다면, 패널은 계속해서 일관된 건조 성능을 보여줍니다.