300mm 웨이퍼 처리 과정에서, 세척 후에도 남아 있는 얇은 물방막은 생산 효율을 크게 저하시킵니다. 잔류 수분은 포토레지스트의 형태를 왜곡시키며, 불균일한 건조는 입자 생성의 원인이 됩니다. 이 문제를 해결하기 위해 우리는 구역별로 제어되는 적외선 패널을 개발했습...

제조 공정에서, 세척 직후에 이루어지는 건조 단계는 수율을 보호하는 매우 중요한 과정입니다. 웨이퍼에 남아 있는 수분은 나중에 미세한 결함으로 나타나며, 이는 리소그래피 공정에 악영향을 미칩니다. 선 폭 제어가 어려워지고, 포토레지스트의 부착도 저하됩니다. 우리는 이...