בשלב האפייה, זו הנקודה שבה נקבעת איכות המוצר הסופי. אם טמפרטורת האפייה יורדת ב-2 מעלות צלזיוס, הממדים החשובים של הוואפר מתחילים להשתנות ברמה של ננומטרים. אם האפייה אינה אחידה, עלולים להתעורר בעיות של חיבור לא יעיל של החומרים לוואפר. תנורי החימום האופטיים פותרים בעיות אלו, ומאפשרים שליטה טובה בטמפרטורה, כאשר הוואפר עצמו משמש כחיישן.
מה חשוב באמת? יצרנו תנורי חימום אופטיים המשתמשים במקורות אינפרא-אדום באורך גל קצר, יחד עם חלונות קוורץ. כך ניתן להשיג אחידות בטמפרטורה של ±0.1 מעלות צלזיוס בכל אזור הוואפר, ויציבות בטמפרטורה של יותר מ-±0.5 מעלות צלזיוס. קצב העלייה בטמפרטורה יכול להגיע עד 10 מעלות צלזיוס לשנייה, מה שמפחית את העומס התרמי על החומרים שנמצאים מתחת לוואפר.
המערכת מתאימה לשימוש בחדרי ניקיון מסוג Class 1 עד Class 100. אנו מוודאים שאין יצירה של חלקיקים זרים באמצעות מערכות מדידה מתקדמות. רמת החזרה של התהליך טובה יותר מ-0.2 מעלות צלזיוס לאחר 500 סיבובים, והמודולים יכולים לפעול יום אחר יום בקווי ייצור בקנה מידה גדול, ללא הפסקות לא צפויות.
למה זה מתאים לתהליכי ליתוגרפיה ואפייה? בתהליכי ליתוגרפיה ועיבוד חומרים פוטורזיסטיים, יש צורך בחום שמגיע במהירות, נשאר יציב, ואינו משאיר שום שאריות. באמצעות חימום אופטי, אנו מחממים את הוואפר ישירות, ולא את התא שבו הוא נמצא. כך זמני העיבוד קצרים יותר, ואין עוד בעיות של עלייה יתר בטמפרטורה.
התוצאה היא שליטה טובה יותר בממדים של הוואפר, פחות צורך בעיבוד חוזר, ופחות פסולת. צריכת האנרגיה יורדת בכ-30% בהשוואה לשימוש בפלטות חימום רגילות. בנוסף, יש צורך בפחות חומרים, מכיוון שאין שחיקה של החומרים כתוצאה ממגע. גם בתהליכי אפייה רכה וגם בתהליכי אפייה קשה, ניתן להשיג טווח תהליכים רחב יותר, ללא עומס תרמי נוסף.
הערות מעשיות תנורי החימום האלו דורשים אספקת חשמל יציבה והתאמה אופטית קפדנית, כדי לשמור על אחידות בטמפרטורה. הם מתאימים לוואפרים בגדלים 150/200/300 ממ, וניתן לשלב אותם עם מערכות סטנדרטיות באמצעות פרוטוקול SECS/GEM. יש לוודא שהציוד שלכם תואם את הממשקים המכניים והפרוטוקולים הנדרשים, לפני ההתקנה.
יש לבצע בדיקות קצרות כדי להתאים את פרופילי החימום לסוג החומרים שאתם משתמשים בהם. לאחר מכן, התהליך יישאר יציב.