Jak zajistit bezpečnost při práci s nestabilními chemikáliemi Buďme upřímní: používání infračervených lamp k vytvrzování materiálů v blízkosti...

Nenechte malou trhlinu zničit vaši výrobní linku Představte si kvartové štíty v lampách ve vaší výrobně jako jedinou ochranu mezi vysokonapěťovými...

Přestaňte zahřívat celý stroj a začněte zahřívat pouze senzory Pokud jste někdy pracovali s výrobou biočidel, víte, jaké to je. Potřebujete, aby...

Zabraňte přehřátí vašich polovodičových nástrojů Problém s IR lampami spočívá v tom, že jsou opravdu velmi silné zdroje energie. Ale tato energie...

Udržení čisté místnosti třídy 100 opravdu čistou Pokud provozujete místnost třídy 100, určitě víte, že filtrace vzduchu je jen polovina problému....

Když pracujete v čisté místnosti třídy 100, neexistuje žádný prostor pro chyby. Jediná nežádoucí částice nebo trocha páry může všechno zničit. Pokud...

Infračervené záření versus horký vzduch: Přestaňte plýtvat časem v čisté místnosti Pokud provozujete linku pro hlubokou úpravu polovodičů, určitě...

Udržování bezpečnosti s dvoutrubkovými infračervenými lampami s zlatým povlakem Pokud používáte infračervené vyhřívače v oblastech chemického...

Proč opouštíme velké pece ve prospěch infračervených lamp z uhlíkových vláken Pokud jste někdy strávili čas v továrně na výrobu polovodičů, víte,...

Jak udržet zlatě pokryté infračervené lampy v bezpečí (a vaše desky neporušené) V továrnách na výrobu polovodičů stačí jediný malý elektrický únik k...

Proč jsou infračervené lampy OEM kvality chytrým vylepšením pro linky na sušení čipů Vyrábíme infračervené topné lampy OEM kvality určené k sušení...

V provozu výroby není termální rozpočet jen doporučením – je to hranice, kterou nesmíte překročit. I několik stupňů odchylky během procesu difuzie...

V praxi není termální rozpočet jen doporučením – jedná se o hranici, kterou nelze překročit. Sebemenší chyba při zahřívání fotorezistu může způsobit...

V prostředí výroby může nárůst teploty o 1 °C během procesu zahřívání fotorezistoru způsobit změny kritických rozměrů v řádu nanometrů – a to stačí...

V procesu sušení hned po čištění se rozhoduje o úrovni výnosů – buď je zachováte, nebo ne. Veškerá vlhkost, která zůstane na polovodičové desce, se...

Na výrobní hale může odchylka 0,2°C při soft bake vyřadit velké množství šarže. Sledujete, jak se fotorezist ztenčuje na okraji, rozšiřují se...

Na výrobní ploše může i malý posun v teplotě měkkého vypalování fotoresistu nenápadně omezit přesnost zarovnání a uniformitu kritických rozměrů....

Na litografické podlaze nejsou měkké vypalování a tvrdé vypalování pouze tepelnými kroky–nastavují expozici. Posun o 2°C přes wafer posune kritický...

Na výrobní hale má lithografická buňka pevně stanovený tepelný rozpočet. Soft bake a hard bake nejsou ovladače, se kterými byste mohli...