标签为“曝光;揭露;接触”的页面如下 曝光后烘烤加热器 在光刻生产中,决定CD控制精度和图形对准效果的关键因素,其实是晶圆表面的PEB温度均匀性。哪怕只有几十分之一的度数偏差,都会影响光刻胶的化学放大效果、改变偏压值,进而影响蚀刻的选择性。这样一来,原本需要数小时才能完成的曝光和测量工作就白费了。 从技术层面来看,什么才是重要的? 我们设计的PEB加热... Read more...
曝光后烘烤加热器 在光刻生产中,决定CD控制精度和图形对准效果的关键因素,其实是晶圆表面的PEB温度均匀性。哪怕只有几十分之一的度数偏差,都会影响光刻胶的化学放大效果、改变偏压值,进而影响蚀刻的选择性。这样一来,原本需要数小时才能完成的曝光和测量工作就白费了。 从技术层面来看,什么才是重要的? 我们设计的PEB加热... Read more...