Litografi bölümünde, wafer üzerindeki PEB sıcaklığının eşit olması, CD kontrolünü ve ürün kalitesini belirleyen temel faktördür. Sadece birkaç ondalık derecelik bir değişim bile fotoresistlerin kimyasal tepkimesini bozar, gerilimi değiştirir ve aşındırma işleminin seçiciliğini etkiler. Bu durumda saatlerce süren işlemler boşa gider.
Teknik açıdan önemli olanlar PEB ısıtıcısını, waferin sıcaklık değerlerinin ±0,1°C aralığında sabit kalmasını sağlayacak şekilde tasarlıyoruz. Fotoresistlerin pişirilme sıcaklığı da tüm süre boyunca belirlenen değerde tutulur. Platform hem yumuşak hem de sert pişirme işlemlerini gerçekleştirir; böylece farklı partiler arasındaki sıcaklık farklarından kaynaklanan sorunlar ortadan kalkar.
Kuarz-halojen kısa dalga vericileri hızlı ve kesin sonuçlar verir. Sıcaklık dağılımı ise kenarlardan kenarlara kadar eşit kalacak şekilde ayarlanır. Temiz oda sınıfları 1–100 için düşük gaz salınımı yapan malzemeler kullanılır ve normal işletim koşullarında hiçbir partikül üretilmez böylece partikül sayısı standartlarda kalır.
Bu sistem, 7/24 çalışabilen tesislerde kullanılır ve her wafer için maliyetin sabit kalması sağlanır.
Neden gerçek üretim ortamlarında işe yarar? Saat 3’te de, öğleden sonra 3’te de aynı şekilde işlev gören bir pişirme işlemine ihtiyaç vardır; bu da farklı işlemler ve wafer boyutları için geçerlidir. PEB ısıtıcısı, pozlama sonrası pişirme işlemini kontrol altına alır; böylece CD kontrolü ve ürün kalitesi standartlarda kalır. Bunun sonucunda daha az yeniden işleme gerekliliği olur, dağılımlar daha düzenli hale gelir ve zamanlamalar planlanabilir hale gelir.
Önceden bilmeniz gerekenler Montaj, sistemin termal arayüzleri ve egzoz sistemleriyle tam entegrasyonuna bağlıdır. Her fotoresist tabakası için kısa bir hizalama ve pişirme profili ayarlaması yapılır. Bunu yaptıktan sonra ısıtıcının tekrarlanabilirliği artar; ancak bu başlangıçtaki ayarlamalar opsiyonel değildir.