Máy sấy sau quá trình phơi nhiễm (PEB)
Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, yếu tố quan trọng nhất chính là mức độ đồng đều về nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer. Chỉ cần có...
Đèn nướng photoresist đồng nhất
Trên sàn sản xuất, một sự trôi lệch 0.2°C trong quá trình nướng mềm có thể làm hỏng rất nhiều sản phẩm. Bạn sẽ thấy độ dày của photoresist mỏng ở...