Trong quy trình sản xuất, bước nung chính là yếu tố quyết định chất lượng của sản phẩm. Nếu nhiệt độ nung không ổn định, giá trị kích thước cần kiểm soát sẽ bị sai lệch vài nanomet. Còn nếu việc nung diễn ra một cách không đồng đều, thì sẽ gây ra nhiều vấn đề liên quan đến chất lượng sản phẩm. Các thiết bị sưởi ấm dùng trong công nghệ quang học giúp giải quyết những vấn đề này, mang lại khả năng kiểm soát nhiệt độ chính xác, với wafer tự đóng vai trò là cảm biến.
Những yếu tố quan trọng
Chúng tôi thiết kế các thiết bị sưởi ấm này dựa trên nguồn ánh sáng hồng ngoại bước sóng ngắn và các cửa sổ bằng thạch anh, sao cho phù hợp với khả năng hấp thụ ánh sáng của silic và chất phủ quang học. Kết quả là độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer đạt mức ±0,1°C, và độ ổn định của nhiệt độ trong điều kiện hoạt động cao hơn mức ±0,5°C. Tốc độ tăng nhiệt độ có thể lên tới 10°C/giây, giúp tiết kiệm năng lượng mà không gây áp lực lên các lớp vật liệu bên dưới.
Khả năng ứng dụng
Các thiết bị này có thể được sử dụng trong môi trường phòng sạch từ loại 1 đến loại 100. Chúng tôi cũng đảm bảo rằng không có hạt bụi nào được tạo ra trong quá trình hoạt động. Độ lặp lại của quá trình sản xuất đạt mức cao hơn 0,2°C sau 500 chu kỳ, và các thiết bị này có thể hoạt động liên tục trong các dây chuyền sản xuất với số lượng lớn, mà không gây ra sự gián đoạn không mong muốn.
Lý do tại sao chúng phù hợp với công nghệ lithography và quy trình nung
Trong công nghệ lithography và quy trình xử lý chất phủ quang học, người ta cần nhiệt độ cao, ổn định, và không để lại tác động xấu nào lên bề mặt wafer. Với công nghệ sưởi ấm quang học, chúng ta có thể sưởi ấm trực tiếp lên wafer, chứ không phải toàn bộ buồng xử lý. Nhờ đó, thời gian xử lý được rút ngắn, và tình trạng nhiệt độ vượt mức cũng được loại bỏ.
Kết luận
Kết quả là việc kiểm soát kích thước bề mặt wafer trở nên chính xác hơn, số lượng sản phẩm cần sửa chữa giảm, và lượng phế liệu cũng giảm. Mức tiêu thụ năng lượng giảm khoảng 30% so với các phương pháp sưởi ấm thông thường. Ngoài ra, do không có sự ma sát do tiếp xúc, nên số lượng vật tư tiêu hao cũng giảm. Cả quy trình nung mềm lẫn nung cứng đều có thể được thực hiện một cách hiệu quả, mà không gây ra áp lực nhiệt.
Lưu ý khi sử dụng
Các thiết bị này cần nguồn điện ổn định và việc điều chỉnh quang học cẩn thận để đảm bảo độ đồng đều của nhiệt độ. Chúng được thiết kế để hoạt động với các wafer có kích thước 150/200/300 mm, và có thể được tích hợp với các hệ thống tiêu chuẩn thông qua giao diện SECS/GEM. Hãy kiểm tra kỹ cơ chế vận hành và giao diện kết nối của thiết bị trước khi lắp đặt.
Lời khuyên
Hãy tiến hành thử nghiệm ngắn để điều chỉnh các thông số liên quan đến quá trình sưởi ấm. Một khi các thông số đã được thiết lập ổn định, quy trình sản xuất sẽ diễn ra suôn sẻ.