300 mm hatlarında, temizleme işleminden sonra kalan ince su tabakası verimliliğinizi düşürür. Kalan nem, fotorezistin yapısını bozar ve eşit olmayan kuruma süreci ise parçacık oluşumuna yol açar.
Bunu düzeltmek için bölgesel olarak kontrol edilebilen kızılötesi ısı kaynakları kullanılan bir sistem geliştirdik. Bu sistem sayesinde geniş spektrumlu ısı yerine, yüzeye odaklanmış ısı kullanılır; böylece film üzerinde herhangi bir baskı oluşmaz.
Bu panel, bağımsız olarak kontrol edilebilen bölgelerde bulunan kısa dalga boylu kızılötesi ışık kaynaklarıyla çalışır. Her bölgede yüzey sıcaklığı ±0,1°C aralığında sabit tutulur; böylece termal kontrol daha iyi sağlanır.
Kvars malzemeden yapılan yüzey ve mühürlü gövde, parçacık oluşumunu sıfıra indirir; bu da temiz oda sınıfları 1–100 arasında kalmasını sağlar. Her bölgedeki çıkış gücü 200 W’dan 1,2 kW’a kadar değişir ve sistem 24/7 kesintisiz çalışacak şekilde tasarlanmıştır.
Sıcaklık kontrolü, fotorezistin işlenmesi için gerekli olan sıcaklık değerleriyle uyumlu olduğundan, tutarlı bir işlenme süreci sağlanır. Pratikte bu, daha az yeniden işleme gerektirir ve kritik boyutların daha iyi kontrol edilmesini sağlar. Gereksiz enerji tüketimi de önlenmiş olur, çünkü ısı yalnızca gerekli olan yerlere uygulanır.
Temizlik sonrası kurutma ve fotorezist işlemleri için bu panel, wafer’ın kuru kalmasını, fotorezist yapısının bozulmamasını ve üretimin devam etmesini sağlar.
Montajı oldukça basittir; ancak panelin doğru konumlandırılması çok önemlidir. Panel, wafer’in hareket yönüne ve egzoz geometrisine uygun şekilde yerleştirilmelidir; aksi takdirde nem tekrar oluşur.
Panel, standart arayüzlerle entegre olabilse de, ışık kaynaklarının sıcaklığını sabit tutmak için özel bir soğutma sistemi gereklidir. Bu önlem alındığında panel, her vardiyada tutarlı bir kurutma performansı sunar.