Dalam proses pembuatan cip, langkah pengeringan yang dilakukan selepas pembersihan merupakan langkah penting untuk memastikan kualiti hasil pengeluaran. Sekiranya masih ada kelembapan pada wafer, ia akan menyebabkan masalah seperti kecacatan mikro pada permukaan wafer. Ini seterusnya akan menjejaskan kawalan ketebalan garisan pada cip tersebut, serta mengganggu proses pelekatan bahan fotoresist. Untuk mengatasi masalah ini, kami menggunakan lampu pengeringan yang mampu menghasilkan haba yang terkawal, bukan hanya haba secara rawak.
Apa yang sebenarnya penting dalam proses ini
Kami menggunakan teknologi pemanasan inframerah gelombang pendek (SWIR) untuk memindahkan tenaga dengan cepat dan terkawal ke wafer. Dengan cara ini, suhu wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Komponen lampu ini diperbuat daripada kuarsa, dan direka sedemikian rupa agar tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya semasa beroperasi. Ini membolehkan operasi berjalan dengan lancar dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Prestasi lampu ini juga konsisten sepanjang masa, sekali gus memastikan kualiti produk tetap stabil dari satu kumpulan pengeluaran ke kumpulan pengeluaran yang lain. Selain itu, lampu ini juga menyokong proses pemprosesan fotoresist dengan baik, tanpa menimbulkan masalah seperti suhu yang tidak stabil.
Mengapa ini penting dalam proses pengeluaran sebenar
Selepas pembersihan, wafer perlu dipastikan dalam keadaan kering sepenuhnya sebelum proses pelapisan bahan fotoresist dilakukan. Lampu pengeringan yang digunakan membantu memendekkan masa pengeringan, dan menggunakan lebih sedikit tenaga berbanding kaedah konvensional. Hasilnya, proses pengeluaran menjadi lebih efisien – kurang keperluan untuk melakukan kerja semula, lebih sedikit bahan yang rosak, dan masa pengeluaran yang lebih boleh diramalkan. Dalam proses pengeluaran berskala besar, penggunaan lampu ini dapat mengurangkan gangguan akibat perubahan suhu yang tidak dijangka, sekaligus meningkatkan waktu operasi mesin.
Apa yang perlu dipastikan semasa penggunaan lampu ini
Lampu ini memerlukan penyesuaian yang tepat dari segi penempatan dan kestabilan penyejukan. Anda memerlukan bekalan kuasa yang bersih dan aliran udara yang terkawal untuk memastikan suhu wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C. Anda perlu meluangkan masa untuk menyesuaikan tetapan lampu agar sesuai dengan jenis wafer dan bahan yang digunakan. Setelah disesuaikan, proses pengeluaran akan berjalan dengan lebih efisien. Inilah sebabnya mengapa langkah ini sangat penting.