노출 후 베이킹(PEB) 히터

리소그래피 공정에서는 웨이퍼 전체에 걸친 PEB의 온도 균일성이 CD 제어와 오버레이를 결정하는 핵심 요소입니다. 단 몇 십 분의 일 도라는 미세한 온도 변화만으로도 포토레지스트의 화학적 증폭이 왜곡되고, 바이어스가 변하며, 에칭 선택성도 달라집니다. 그 결과, 노출...