Reflektor untuk lampu pengeringan wafer
Di area produssi, perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pematangan fotoresist dapat menyebabkan perubahan pada dimensi kritis komponen tersebut...
Pengeringan underfill untuk semikonduktor IR
Di lantai produksi, proses pengeringan menggunakan sinar inframerah bukanlah proses yang dilakukan secara bertahap, melainkan proses yang membutuhkan...