Mendapatkan Suhu yang Tepat di Dalam Tekanan Vakum
Saat memproduksi semikonduktor, hal terakhir yang diinginkan adalah adanya partikel-partikel yang merusak permukaan wafer. Namun, kita tetap membutuhkan panas—dan dalam jumlah yang banyak. Di sinilah pemanas inframerah yang cocok digunakan dalam kondisi vakum menjadi penting. Alih-alih mengandalkan udara atau gas untuk mentransfer panas (yang sebenarnya tidak efektif dalam kondisi vakum), pemanas ini langsung memancarkan energi radiasi ke permukaan substrat.
Cara ini lebih efisien dan langsung.
Masalah terkait densitas daya
Dalam kondisi vakum, radiasi merupakan satu-satunya cara untuk mentransfer panas. Kita perlu membuat pemanas yang mampu memberikan panas secara cepat dan efektif. Jika Anda masih menggunakan metode pemanasan konvensional, Anda akan membuang-buang banyak energi hanya untuk memanaskan dinding-dinding ruangan tersebut. Ini sama saja dengan mencoba memanaskan seluruh rumah hanya untuk menjaga suhu secangkir kopi agar tetap hangat. Pemanas inframerah dapat mengatasi masalah ini; panasnya ditujukan langsung ke permukaan wafer, bukan ke mesinnya.
Hasilnya? Waktu yang dibutuhkan untuk mencapai suhu yang diinginkan berkurang, dan biaya listrik pun berkurang. Ini merupakan cara sederhana untuk membuat ruang produksi lebih ramah lingkungan, tanpa menyulitkan para operator.
Bahan yang digunakan sangat penting
Anda tidak bisa sembarangan menggunakan lampu apa pun di dalam kondisi vakum. Jika menggunakan kaca biasa, lampu tersebut akan pecah atau mulai melepaskan bahan kimia ke lingkungan sekitar. Hal ini tentu akan merusak kualitas produk yang dihasilkan. Kami menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi sebagai bahan pembuat lampu tersebut, karena bahan ini mampu menahan tekanan yang tinggi. Kami juga memperhatikan kualitas segel dan elektroda yang digunakan. Jika segelnya bocor, vakum akan hilang. Jika ada partikel kecil yang terlepas, wafer akan rusak. Kami tidak mau mengambil risiko tersebut.
Kompromi yang harus diterima
Masalahnya adalah, ketika banyak daya dialirkan ke pemanas inframerah, bagian chasis yang ada di sekitarnya akan terkena dampak negatifnya. Wafer menjadi panas dengan cepat, tetapi panas yang dipantulkan harus dikirim ke tempat lain. Jika sistem pendinginan tidak cukup kuat untuk menangani panas tersebut, proses produksi akan terganggu. Ini sangat menjengkelkan dan sulit dikalibrasi. Anda perlu memastikan bahwa sistem pendinginan memiliki kapasitas yang cukup sejak awal.
Berita baiknya? Kami merancang pemanas ini sedemikian rupa sehingga dapat digunakan sebagai pengganti pemanas lama. Anda dapat mengganti pemanas lama tersebut, sehingga proses produksi menjadi lebih efisien, tanpa perlu merombak seluruh sistem produksi Anda.