Di ruang produksi, tahap pemanasan merupakan faktor penentu keberhasilan proses produksi. Jika suhu pemanasan berubah sebesar 2°C, maka dimensi-kritis dari wafer akan berubah sebesar beberapa nanometer. Jika proses pemanasan tidak merata, hal tersebut akan menyebabkan masalah terkait kualitas permukaan wafer. Pemanas optik membantu mengatasi masalah ini, dengan memberikan kontrol suhu yang akurat, di mana wafer sendiri berfungsi sebagai sensor.
Yang penting adalah penggunaan sumber sinar inframerah panjang gelombang pendek dan jendela kuarsa yang sesuai dengan cara silikon dan bahan fotoresist menyerap panas. Dengan demikian, tingkat keseragaman suhu di permukaan wafer mencapai ±0,1°C, sedangkan stabilitas suhu saat beban berada pada tingkat yang tinggi mencapai lebih dari ±0,5°C. Laju perubahan suhu bisa mencapai 10°C/detik, sehingga penggunaan energi berkurang, tanpa menimbulkan tekanan berlebih pada lapisan di bawahnya.
Platform ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1 hingga kelas 100. Kami juga memastikan bahwa tidak ada partikel yang terbentuk selama proses produksi, melalui penggunaan alat pengukuran yang canggih. Tingkat repetibilitasnya lebih baik dari 0,2°C setelah 500 siklus, dan modul pemanas ini dapat digunakan secara terus-menerus dalam proses produksi skala besar, tanpa adanya gangguan tak terduga.
Mengapa hal ini cocok untuk proses litografi dan pemanasan? Dalam proses litografi dan pemrosesan fotoresist, diperlukan panas yang datang dengan cepat, stabil, dan tidak meninggalkan efek negatif apa pun. Dengan pemanasan optik, wafer dipanaskan secara langsung, bukan seluruh ruang pemrosesan. Waktu proses menjadi lebih singkat, dan gangguan suhu pun berkurang.
Hasilnya adalah kontrol dimensi wafer yang lebih baik, jumlah produk yang harus direvisi berkurang, dan limbah pun berkurang. Penggunaan energi berkurang hingga 30% dibandingkan dengan penggunaan pemanas konvensional. Selain itu, kebutuhan akan komponen substitusi juga berkurang, karena tidak ada keausan akibat kontak fisik. Proses pemanasan jenis “soft bake” maupun “hard bake” pun dapat dilakukan dengan lebih baik, tanpa menimbulkan tekanan termal yang berlebih.
Catatan praktis: Pemanas ini membutuhkan pasokan daya yang stabil dan penyesuaian optik yang tepat agar tingkat keseragaman suhu tetap terjaga. Pemanas ini dirancang untuk digunakan pada wafer berukuran 150/200/300 mm, dan dapat diintegrasikan dengan sistem standar SECS/GEM. Pastikan terlebih dahulu bahwa antarmuka mekanis dan protokol alat Anda sesuai sebelum memasangnya.
Lakukan uji coba singkat untuk menyesuaikan profil suhu sesuai dengan jenis bahan fotoresist yang digunakan. Setelah itu, proses produksi akan berjalan secara stabil.