هیتر پخت پس از قرار گرفتن در معرض تابش (PEB)
در فرآیند لیتوگرافی، یکنواختی دمای PEB در سراسر ویفر، عامل کلیدی برای کنترل خطایات تصویربرداری و همچنین کنترل استحکام لایههای رزیستور فوتوگرافی است....
لامپ پخت رزین حساس به نور یکنواخت
در سالن تولید، جابجایی ۰.۲°C در نرم پخت میتواند باعث ضایعات گستردهای شود. مشاهده میکنید که در لبهها فیلم فوتوریست نازک میشود، ابعاد بحرانی...