در فرآیند لیتوگرافی، میدانید که تغییر دمای ۰٫۳ درجه سانتیگراد در حین فرآیند پخت نرم، میتواند ابعاد کلیدی قطعات را تا چند نانومتر تغییر دهد. یک ذره روی سطح داغ میتواند به تخریب قطعات منجر شود. هیتر مورد استفاده برای گرم کردن ویفر، نباید فقط داغ شود؛ بلکه باید رفتار حرارتی یکنواخت و قابل پیشبینی داشته باشد، روز به روز، بدون اینکه انرژی بیهوده مصرف شود.
آنچه اهمیت دارد، کنترلی است که بتوان آن را اندازهگیری کرد. ما از الکترومغناطیسهای مادون قرمز با منبع تولید نور تقویتشده از کوارتز استفاده میکنیم؛ این روش باعث میشود دمای سطح ویفر در کل ناحیه فعال، در محدوده ±۰٫۱ درجه سانتیگراد باقی بماند. فرآیندهای پخت نرم و سخت نیز در محدودههای حرارتی مشخصی انجام میشوند؛ همچنین، سیستم پس از باز شدن درب، به سرعت به حالت عادی برمیگردد.
این سیستم برای استفاده در اتاقهای پاک با سطح کنترل ۱ تا ۱۰۰ مناسب است: موادی با میزان گاز خروجی کم، سطوح صاف، و مسیر جریان هوای یکنواخت که باعث کاهش تولید ذرات میشود. قابلیت اطمینان این سیستم ناشی از وجود چرخه کنترلی تکمیلی، قابلیت تشخیص خودکار، و طراحیای است که امکان کار ۲۴ ساعته روزانه را فراهم میکند؛ همچنین، مصرف انرژی نیز کاهش مییابد، زیرا هیتر به سرعت به دمای مورد نظر میرسد و آن را حفظ میکند. این سیستم میتواند اندازههای مختلف ویفرها را نیز پردازش کند.
پایداری حرارتی، منجر به پایداری کیفیت محصول میشود. کنترل دقیقتر دما، باعث کاهش تغییرات در عرض خطوط تولید میشود؛ همچنین، این امر باعث کاهش مصرف انرژی و کاهش میزان محصولات با کیفیت پایین میشود. برای این منظور، باید ابتدا مسیر جریان هوا را بهینه کنید؛ در غیر این صورت، باید در آینده برای آن هزینه بپردازید.