Đèn sưởi UHP (Siêu tinh khiết)

Sun, 07 Jun 2026 01:09:04 +0800

Trên tầng lithography, soft bake và hard bake không chỉ là các bước nhiệt đơn thuần—chúng thiết lập sự phơi sáng. Sai số 2°C trên toàn bộ wafer làm lệch kích thước quan trọng (CD) tính bằng nanomet, và một hạt đèn cũng có thể làm hỏng một die. Nhiệt độ phải được kiểm soát như một thông số kỹ thuật, không phải đoán mò.

Điều quan trọng bên trong thiết bị
Chúng tôi thiết kế đèn heater UHP xung quanh các phần tử halogen hồng ngoại sóng ngắn, được bọc kín trong thạch anh tinh khiết cao và được đánh giá phù hợp cho môi trường cleanroom Class 1–100. Công suất đầu ra được điều chỉnh để đáp ứng nhiệt nhanh với độ đồng đều ở mức wafer ±0.1°C, đảm bảo bản đồ nhiệt lặp lại chính xác qua từng lần bake. Thiết kế giữ mức phát thải hạt ở mức bằng không trong trạng thái ổn định, ngăn chặn bụi bẩn xâm nhập vào buồng xử lý. Người dùng nhận được các ngân sách nhiệt ổn định, có thể lặp lại, độ tin cậy 24/7, và chu kỳ bảo dưỡng tính bằng hàng nghìn giờ, không phải tuần.

(Ultra on Expert Warm IR Heating Solutions

Đèn sưởi UHP (Siêu tinh khiết)