Bảng Điều Khiển on Expert Warm IR Heating Solutions

Bảng sấy wafer theo từng vùng bằng tia hồng ngoại

Mon, 29 Jun 2026 02:27:23 +0800

Trên dây chuyền sản xuất có kích thước 300 mm, lớp nước mỏng còn sót lại sau quá trình làm sạch sẽ ảnh hưởng tiêu cực đến hiệu suất sản xuất. Hơi ẩm dư thừa sẽ làm xáo trộn cấu trúc của lớp phim điện tử, và việc sấy khô không đồng đều chính là nguyên nhân gây ra sự xuất hiện của các hạt bụi.

Chúng tôi đã phát triển bảng điều khiển sấy khô bằng tia hồng ngoại để khắc phục vấn đề này. Bảng điều khiển này sử dụng năng lượng hồng ngoại có bước sóng ngắn, được điều khiển một cách chính xác, giúp sấy khô wafer mà không gây áp lực lên lớp phim điện tử.

Đèn hồng ngoại dùng để kết nối bảng cảm ứng

Sat, 27 Jun 2026 01:13:09 +0800

Trong quy trình sản xuất, ngân sách nhiệt không phải là yếu tố có thể bỏ qua được – đó chính là giới hạn mà chúng ta không được vượt qua. Chỉ cần có sự sai lệch nhỏ trong quá trình nung phim thuốc ảnh, độ đồng đều của bề mặt wafer sẽ bị ảnh hưởng. Nếu có điểm lạnh xảy ra trong quá trình sấy wafer, chúng ta lại phải đối mặt với vấn đề các hạt vật chất tích tụ ở các mép wafer. Chúng tôi đã thiết kế chiếc đèn hồng ngoại này để hoạt động trong điều kiện khắc nghiệt này, giúp tạo ra nguồn nhiệt ổn định và chính xác tại những vị trí cần thiết trong quy trình sản xuất.