http://warm-ir-heater-expert.com/vi/tags/b%C3%A0i-%C4%91%C4%83ng/ Recent content in Bài Đăng on Expert Warm IR Heating Solutions Hugo vi Wed, 17 Jun 2026 11:10:56 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/vi/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ Wed, 17 Jun 2026 11:10:56 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/vi/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-expert.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Máy sấy sau quá trình phơi nhiễm (PEB)"></p> <p>Trong quy trình in ấn bằng phương pháp <a href="https://o-yate.com">lithography</a>, yếu tố quan trọng nhất chính là mức độ đồng đều về nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer. Chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ dù chỉ vài phần mười độ C thôi cũng có thể làm sai lệch quá trình khuếch đại hóa chất trong lớp photoresist, gây ra sự thay đổi trong giá trị bias và ảnh hưởng đến khả năng etching của lớp vật liệu. Điều này khiến cho việc chiếu sáng và đo lường trở nên vô ích.</p>