เครื่องทำความร้อนสำหรับการอบหลังการสัมผัสกับแสง (Post Exposure Bake PEB)

Wed, 17 Jun 2026 11:10:56 +0800

ในขั้นตอนการผลิตด้วยเทคโนโลยีลิโธกราฟีนั้น ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิ PEB บนพื้นผิวของวีเดียร์ถือเป็นปัจจัยสำคัญที่กำหนดค่า CD และความสม่ำเสมอของการเคลือบสารโฟโตเรซิสต์ แม้ว่าอุณหภูมิจะเปลี่ยนแปลงเพียงไม่กี่สิบส่วนขององศาเซลเซียส ก็สามารถส่งผลต่อการทำงานของสารโฟโตเรซิสต์ ทำให้ค่าแรงดันเปลี่ยนไป และส่งผลต่อความสามารถในการกัดวัสดุด้วย ซึ่งนั่นก็หมายความว่าคุณจะต้องใช้เวลาหลายชั่วโมงไปกับการถ่ายภาพและการวัดค่าต่างๆ โดยเปล่าประโยชน์

สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค เราออกแบบเครื่องทำความร้อน PEB ให้มีความสม่ำเสมอของอุณหภูมิที่ระดับ ±0.1°C และเราก็ควบคุมอุณหภูมิในการอบสารโฟโตเรซิสต์ให้อยู่ในช่วงที่กำหนดตลอดกระบวนการอบ นอกจากนี้ แพลตฟอร์มยังสามารถทำการอบแบบอ่อนและแบบแข็งได้ โดยมีอัตราการเพิ่มอุณหภูมิที่สม่ำเสมอ เพื่อให้ไม่มีการเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิระหว่างการอบครั้งต่างๆ

เครื่องกำเนิดรังสีความถี่สั้นชนิดควอตซ์-ฮาโลเจนช่วยให้เกิดการตอบสนองที่รวดเร็วและแม่นยำ นอกจากนี้ รูปร่างของบริเวณที่มีอุณหภูมิสูงก็ถูกออกแบบมาเพื่อให้มีความสม่ำเสมอจากขอบหนึ่งไปยังอีกขอบหนึ่ง สำหรับห้องปลอดฝุ่นระดับ Class 1–100 เราใช้วัสดุที่มีการปล่อยก๊าซน้อย และออกแบบระบบให้ไม่มีการเกิดฝุ่นในระหว่างการทำงาน ดังนั้นจำนวนฝุ่นจึงอยู่ในเกณฑ์ที่กำหนด โดยไม่จำเป็นต้องมีการกรองเพิ่มเติม

เครื่องนี้ถูกออกแบบมาให้สามารถทำงานได้ตลอด 24 ชั่วโมง โดยไม่มีการหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด นอกจากนี้ ระบบการจัดการพลังงานยังช่วยให้ต้นทุนต่อวีเดียร์อยู่ในระดับที่สม่ำเสมอ

เหตุใดเครื่องนี้จึงสามารถใช้งานได้จริงในโรงงานผลิต คุณต้องการให้กระบวนการอบมีความสม่ำเสมอ ไม่ว่าจะเป็นเวลาตี 3 หรือบ่าย 3 โมง และไม่ว่าจะเป็นวีเดียร์ขนาดใดก็ตาม เครื่องทำความร้อน PEB ช่วยให้กระบวนการอบมีความสม่ำเสมอ ทำให้ค่า CD และความสม่ำเสมอของการเคลือบสารโฟโตเรซิสต์อยู่ในเกณฑ์ที่กำหนด และทำให้กระบวนการกัดวัสดุมีความแม่นยำ ผลลัพธ์ก็คือมีการทำงานซ้ำน้อยลง ความแปรปรวนของค่าต่างๆ ลดลง และสามารถวางแผนเวลาการทำงานได้อย่างแม่นยำ

สิ่งที่คุณควรรู้ล่วงหน้า การติดตั้งเครื่องนี้ต้องอาศัยการออกแบบที่สอดคล้องกับระบบการจัดการความร้อนและระบบระบายอากาศของโรงงาน คุณจะต้องทำการปรับแต่งตำแหน่งของเครื่องและกำหนดโปรไฟล์การอบสำหรับแต่ละชั้นของสารโฟโตเรซิสต์ เมื่อทำเช่นนั้นแล้ว ความสม่ำเสมอของการทำงานของเครื่องก็จะเพิ่มขึ้น แต่การปรับแต่งเหล่านี้เป็นสิ่งจำเป็นต้องทำ

โคมไฟอบโฟโต้เรซิสต์ที่มีความสม่ำเสมอ

Wed, 10 Jun 2026 01:35:24 +0800

บนพื้นที่โรงงาน การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ 0.2°C ในกระบวนการ soft bake อาจทำให้ผลิตภัณฑ์เสียหายจำนวนมาก คุณจะเห็น photoresist บางที่ขอบ วัดขนาดสำคัญกระจาย และความสามารถในการทำลิโธกราฟีลดลงโดยเปล่าประโยชน์ หลอดไฟอบนี้ถูกออกแบบมาเพื่อหยุดการเปลี่ยนแปลงดังกล่าวก่อนที่มันจะเกิดขึ้น

ทางเทคนิค สิ่งที่สำคัญคือเราวิศวกรรูปแบบการอบรอบ wafer ไม่ใช่บริเวณห้องอบ หลอดไฟรักษาความสม่ำเสมอของอุณหภูมิระดับ wafer ภายใน ±0.1°C ตลอดเส้นผ่านศูนย์กลางทั้งหมด รักษาอุณหภูมิได้อย่างรวดเร็ว และทำซ้ำได้ในแต่ละล็อต ชิ้นส่วนทำความร้อนคาร์บอนไฟเบอร์และออปติก NIR ให้การตอบสนองที่มั่นคงและรวดเร็วโดยไม่มีจุดร้อน ใช้งานในห้องคลีนรูมระดับ Class 1–100 และไม่สร้างฝุ่นละออง—ผ่านการตรวจสอบฝุ่นละอองในกระบวนการ ภายใต้การใช้งาน 7×24 หลอดไฟนี้ไม่เคยมีการหยุดทำงานโดยไม่คาดหมายจากหลายพันรอบการใช้งาน และเอาต์พุตยังคงเสถียรเกิน 5,000 ชั่วโมง

เหตุผลที่มันใช้ได้ในกระบวนการ photoresist คือความถูกต้องของอุณหภูมิกระตุ้นการระเหยสารละลาย ความหนาฟิล์ม และการควบคุม CD หลอดไฟรักษางบประมาณความร้อนตามที่กระบวนการต้องการ—ลดงานซ้ำ เพิ่มผลผลิต และลดพลังงานเพราะความร้อนมุ่งสู่จุดที่สำคัญ คุณจะได้ soft bake และ hard bake ที่สม่ำเสมอในทุกเครื่อง ทุกกะ และทุกเรขาคณิตของ wafer—ความแม่นยำที่ตรวจสอบได้

หลอดไฟสามารถเข้าแทนที่บนระบบเดิมและแผ่นอบที่มีอยู่ แต่การจัดตำแหน่งและการแยกความร้อนเป็นสิ่งที่ไม่สามารถต่อรองได้ ต้องวางแผนการติดตั้งเฉพาะเครื่องและยืนยันว่าส่วนติดต่อความร้อนและแหล่งจ่ายไฟตรงตามตัวเชื่อมต่อและแรงดันไฟฟ้าที่ระบุ การติดตั้งใช้เวลาสั้น—ปรับอัตราการไต่ระดับและการเกินอุณหภูมิ และเมื่อกำหนดค่าแล้ว กระบวนการจะถูกล็อก ช่วงเวลาบำรุงรักษายาวนาน การเปลี่ยนอะไหล่เป็นการวางแผนล่วงหน้า ไม่ใช่การหยุดฉุกเฉิน

อบ on Expert Warm IR Heating Solutions

เครื่องทำความร้อนสำหรับการอบหลังการสัมผัสกับแสง (Post Exposure Bake PEB)

โคมไฟอบโฟโต้เรซิสต์ที่มีความสม่ำเสมอ