Lâmpada de forno de difusão de semicondutores

Fri, 03 Jul 2026 02:49:18 +0800

Na linha de produção, o controle térmico não é algo opcional – é um limite que não pode ser ultrapassado. Uma pequena variação de temperatura durante o processo de difusão ou secagem do fotoresist faz com que as dimensões críticas das peças fiquem fora dos parâmetros desejados. E isso resulta em desperdício de material. A lâmpada do forno é o elemento responsável pelo controle térmico.

O que realmente importa Utilizamos emissores de halogênio de onda curta dentro de invólucros de quartzo de alta pureza, para que o calor atinja a superfície da wafers de maneira rápida e consistente. Mantemos a uniformidade térmica entre ±0,1°C, e o sistema de controle em ciclo fechado garante que os parâmetros se mantenham estáveis, com resposta em menos de um segundo. O perfil de saída da lâmpada é ajustado para permitir a penetração de luz no espectro NIR, garantindo assim que o fotoresist receba energia consistente durante os processos de secagem – reduzindo assim as ondas estacionárias e os problemas nas bordas do material.

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