Aquecedor de pós exposição (PEB)

Wed, 17 Jun 2026 11:10:55 +0800

Na área de litografia, a uniformidade da temperatura do PEB ao longo do wafer é o fator que realmente determina o controle do CD e a precisão na deposição do material fotoresistente. Mesmo uma variação de algumas décimas de grau pode afetar a amplificação química do fotoresistente, alterar os valores de tensão utilizados no processo e modificar a seletividade da etapa de gravação. Isso faz com que sejam necessárias horas extras de trabalho para correções, sem nenhum resultado concreto.

Lâmpada de cozimento de fotorresiste uniforme

Wed, 10 Jun 2026 01:35:24 +0800

No chão de fábrica, uma variação de 0,2°C no soft bake pode resultar em grande descarte. Observe o afinamento do fotoresiste na borda, a variação nas dimensões críticas e a capacidade de litografia consumida sem benefício. Esta lâmpada de bake foi desenvolvida para eliminar essa variação antes que ela ocorra.

Tecnicamente, o que importa é que projetamos o perfil de bake em torno da pastilha, não da câmara. A lâmpada mantém uniformidade térmica na pastilha dentro de ±0,1°C ao longo do diâmetro total, estabiliza rapidamente e repete o desempenho de lote a lote. Elementos de aquecimento em fibra de carbono e óptica NIR proporcionam resposta estável e rápida sem pontos quentes. Opera em salas limpas Classe 1–100 e gera zero partículas — validado por monitoramento de partículas in-situ. Classificada para operação 7×24, não registrou paradas não planejadas em milhares de ciclos, e seu desempenho permanece estável por mais de 5.000 horas.

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Aquecedor de pós exposição (PEB)

Lâmpada de cozimento de fotorresiste uniforme