Aquecedor para processamento de wafers ópticos

Tue, 30 Jun 2026 01:21:24 +0800

Na linha de produção, a etapa de cozimento é crucial para determinar o sucesso ou fracasso do processo. Se a temperatura de cozimento variar 2°C, as dimensões críticas do wafer começam a sofrer alterações em nível de nanômetros. E se o cozimento não for uniforme? Isso causará problemas relacionados à aderência dos materiais ao wafer. Os aquecedores ópticos resolvem esse problema, permitindo um controle térmico preciso, com o próprio wafer atuando como sensor.

O que é importante por trás disso tudo? Criamos esses aquecedores ópticos com base em fontes de infravermelho de onda curta e janelas de quartzo, de modo a se adaptar à forma como o silício e o fotoreagente absorvem calor. O resultado é uma uniformidade térmica de até ±0,1°C na área ativa do wafer, além de uma estabilidade da temperatura superior a ±0,5°C sob carga. A taxa de aumento de temperatura pode chegar a 10°C/s, o que reduz o consumo energético sem causar estresse nos materiais presentes no wafer.

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