Panel on Expert Warm IR Heating Solutions

Geadresseerd koekdrogen infraroodpaneel

Mon, 29 Jun 2026 02:27:24 +0800

Op de 300 mm-lijn kan een dunne laag water die na het schoonmaken achterblijft, de productiecapaciteit ernstig beperken. Restanten van vocht verstoren het profiel van de fotoresistentie, en ongelijkmatig drogen betekent dat er gemakkelijk deeltjes kunnen ontstaan.

Om dit te voorkomen hebben we een infraroodpaneel ontwikkeld dat speciaal is ontworpen voor het drogen van wafers. Hierbij wordt in plaats van warmte op grote schaal, gecontroleerde energie gebruikt om de wafer te drogen, zonder dat de film beschadigd raakt.

Infraroodlamp voor verbinding van touchpanel

Sat, 27 Jun 2026 01:13:09 +0800

Op het gebied van warmtebeheer is het thermische budget geen aanrader – het is een grens die niet mag worden overschreden. Eén klein foutje tijdens het verhitten van de fotoresist kan al leiden tot onregelmatigheden in de uniformiteit van de CD. Eén koude plek tijdens het drogen van de wafer zorgt er weer voor dat er oneffenheden ontstaan. We hebben de infraroodlamp ontworpen om precies in deze situaties te kunnen worden gebruikt: hij zorgt voor stabiele, gecontroleerde warmteopwekking op exact de plekken waar dit nodig is.