Tenaga on Expert Warm IR Heating Solutions

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Fri, 24 Jul 2026 09:05:50 +0800

Mari kita bincangkan masalah yang wujud dengan penggunaan udara panas dalam proses pemprosesan semikonduktor. Kaedah ini sangat perlahan. Apabila kita bergantung pada udara panas untuk memindahkan haba ke permukaan wafer, sebenarnya kita sedang menggunakan “perantara” yang tidak berfungsi dengan efektif. Dalam proses pemprosesan yang kompleks, kelewatan ini merupakan halangan besar yang boleh mengganggu keseluruhan proses produksi.

Kita telah menemukan cara yang lebih baik: gantikan alat peniup udara tersebut dengan pemancar gelombang inframerah.

Masalah yang timbul akibat menunggu
Sistem penggunaan udara panas mempunyai banyak masalah berkaitan “inersia termal”. Kita perlu menunggu lama agar suhu di dalam ketuhar mencapai tahap yang diinginkan, dan kemudian perlu menunggu lagi agar haba tersebut dapat meresap ke dalam bahan yang diproses. Ini sangat menjengkelkan.

Ujian penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Tue, 21 Jul 2026 01:43:36 +0800

Hentikan pembaziran tenaga haba: Cara yang lebih baik untuk mengeringkan bahan dalam proses pengeluaran
Jika anda merancang untuk membina kilang pengeluaran yang moden, perkara pertama yang perlu dilakukan ialah membuang penggunaan pemanas konvektif lama tersebut. Pemanas tersebut lambat dan tidak cekap. Kebanyakan jurutera kini beralih kepada sistem inframerah yang lebih efisien. Mengapa? Kerana sistem ini dapat menghantar tenaga secara langsung ke bahan yang ingin dikeringkan, dan itulah yang diperlukan apabila proses pengeluaran menjadi lebih digital.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Thu, 02 Jul 2026 02:49:47 +0800

Di lantai proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.3°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting komponen tersebut, dalam skala nanometer. Sebuah zarah kecil di permukaan yang panas pun boleh merosakkan komponen tersebut. Pemanas yang digunakan untuk memanaskan wafer perlu memberikan hasil pemanasan yang konsisten dan tepat, dari hari ke hari, tanpa membuang tenaga secara percuma.

Yang penting adalah kawalan yang dapat diukur dengan tepat. Kami menggunakan teknologi inframerah gelombang pendek dengan sistem pemancar berbasis kuarsa, sehingga memberikan keseragaman suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan yang aktif. Proses pemanasan dilakukan dalam batas suhu yang ditetapkan, dengan stabilitas suhu yang tinggi, serta kemampuan pemulihan yang cepat setelah pintu dibuka.