http://warm-ir-heater-expert.com/ms/tags/pos/ Recent content in Pos on Expert Warm IR Heating Solutions Hugo ms Wed, 17 Jun 2026 11:10:56 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ Wed, 17 Jun 2026 11:10:56 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-expert.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)"></p> <p>Di bilik litografi, keseragaman suhu PEB di seluruh permukaan wafer merupakan faktor penting yang menentukan kawalan ketepatan ukuran CD dan kelancaran proses pengeluaran. Sebarang perubahan suhu sebanyak beberapa persepuluh darjah pun boleh mengganggu proses penghasilan bahan fotorezistan, mengubah nilai bias, serta mempengaruhi keberkesanan proses etching. Akibatnya, masa yang digunakan untuk proses pengexposur dan pengukuran menjadi sia-sia.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya</strong><br> Kita membina pemanas PEB agar suhu di sekitar wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu pemanasan fotorezistan pula dikekalkan pada nilai yang ditetapkan sepanjang proses pemanasan. Platform ini menggunakan kaedah pemanasan lembut dan keras, dengan kadar peningkatan suhu yang konsisten. Dengan cara ini, perubahan suhu antara setiap sesi pengeluaran dapat dikurangkan.</p>