<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pembersihan on Expert Warm IR Heating Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-heater-expert.com/ms/tags/pembersihan/</link>
		<description>Recent content in Pembersihan on Expert Warm IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:59 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-expert.com/ms/tags/pembersihan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengeringan wafer selepas pembersihan</title>
				<link>http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:59 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-expert.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampu pengeringan wafer selepas pembersihan&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses pembuatan cip, langkah pengeringan yang dilakukan selepas pembersihan merupakan langkah penting untuk memastikan kualiti hasil pengeluaran. Sekiranya masih ada kelembapan pada wafer, ia akan menyebabkan masalah seperti kecacatan mikro pada permukaan wafer. Ini seterusnya akan menjejaskan kawalan ketebalan garisan pada cip tersebut, serta mengganggu proses pelekatan bahan fotoresist. Untuk mengatasi masalah ini, kami menggunakan lampu pengeringan yang mampu menghasilkan haba yang terkawal, bukan hanya haba secara rawak.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang sebenarnya penting dalam proses ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan teknologi pemanasan inframerah gelombang pendek (SWIR) untuk memindahkan tenaga dengan cepat dan terkawal ke wafer. Dengan cara ini, suhu wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Komponen lampu ini diperbuat daripada kuarsa, dan direka sedemikian rupa agar tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya semasa beroperasi. Ini membolehkan operasi berjalan dengan lancar dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Prestasi lampu ini juga konsisten sepanjang masa, sekali gus memastikan kualiti produk tetap stabil dari satu kumpulan pengeluaran ke kumpulan pengeluaran yang lain. Selain itu, lampu ini juga menyokong proses pemprosesan fotoresist dengan baik, tanpa menimbulkan masalah seperti suhu yang tidak stabil.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
