Pemantul Cahaya on Expert Warm IR Heating Solutions

Lampu inframerah dengan reflektor emas

Sat, 25 Jul 2026 02:11:27 +0800

Berhenti membuang masa dengan penggunaan udara panas: Mengapa reflektor inframerah dan emas berkesan untuk proses pemprosesan semikonduktor
Jika anda masih bergantung pada penggunaan udara panas untuk proses pemprosesan semikonduktor, sebenarnya anda sedang menunggu udara tersebut melakukan kerja berat tersebut. Dengan beralih kepada lampu inframerah yang dilengkapi reflektor emas, segalanya akan berubah. Anda tidak perlu lagi bergantung pada proses konveksi, sebaliknya boleh menggunakan tenaga radiasi.

Dalam kata mudah, ini akan mengurangkan masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran.
Prinsip fiziknya sangat mudah:
Udara panas bergerak dengan perlahan. Ia perlu melalui medium tertentu agar haba dapat sampai ke permukaan komponen yang ingin diproses. Namun, lampu inframerah tidak memerlukan cara ini. Ia menghantar gelombang elektromagnetik terus ke sasaran.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Fri, 24 Jul 2026 09:18:00 +0800

Hentikan alat semikonduktor daripada menjadi terlalu panas

Inilah masalahnya dengan lampu IR: ia memang sangat berkuasa. Namun, tenaga yang dihasilkan oleh lampu tersebut tidak tertumpu di tempat yang diinginkan. Jika tidak berhati-hati, haba tersebut akan menyebar ke seluruh bahagian mesin. Saya sudah melihat perkara ini berlaku berkali-kali. Apabila susunan komponen mesin tidak betul, dinding dalaman mesin akan menjadi sangat panas sehingga boleh membahayakan pengendali atau menyebabkan mesin berhenti berfungsi. Ini bukanlah cara yang baik untuk mengendalikan mesin.

Pemantul untuk lampu pengeringan wafer

Fri, 26 Jun 2026 01:13:05 +0800

Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran fotoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal komponen tersebut sebanyak beberapa nanometer. Perubahan sekecil itu pun sudah cukup untuk merosakkan produk yang dihasilkan. Oleh itu, kami mencipta reflektor khusus untuk lampu yang digunakan dalam proses pembakaran wafer, agar ketidakpastian akibat perubahan suhu dapat dikurangkan.

Apa yang penting di sebaliknya
Reflektor ini direka khas untuk sumber cahaya inframerah gelombang pendek, agar ia dapat menghasilkan tenaga yang efektif dan terarah, dengan kawalan spektrum yang tepat. Keseragaman suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, yang merupakan nilai yang diperlukan untuk mendapatkan hasil yang konsisten dalam proses pembakaran fotoresist. Bahan substratnya ialah kuarsa – bahan yang dipilih kerana sifat pantulannya yang stabil serta kadar pelepasan gas yang rendah. Kuarsa juga mampu mengekalkan sifat pantulannya walaupun selepas ribuan kitaran pemanasan. Ia sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Proses pemasangan reflektor ini dilakukan sedemikian rupa agar tidak ada zarah tersisa, sehingga permukaan wafer tetap bersih. Prestasi reflektor ini kekal stabil walaupun setelah 5,000 jam beroperasi.