http://warm-ir-heater-expert.com/ms/tags/mengubati/ Recent content in Mengubati on Expert Warm IR Heating Solutions Hugo ms Fri, 26 Jun 2026 01:13:05 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 01:13:05 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-expert.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Pemantul untuk lampu pengeringan wafer"></p> <p>Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran fotoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal komponen tersebut sebanyak beberapa nanometer. Perubahan sekecil itu pun sudah cukup untuk merosakkan produk yang dihasilkan. Oleh itu, kami mencipta reflektor khusus untuk lampu yang digunakan dalam proses pembakaran wafer, agar ketidakpastian akibat perubahan suhu dapat dikurangkan.</p> <p><strong>Apa yang penting di sebaliknya</strong><br> Reflektor ini direka khas untuk sumber cahaya inframerah gelombang pendek, agar ia dapat menghasilkan tenaga yang efektif dan terarah, dengan kawalan spektrum yang tepat. Keseragaman suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, yang merupakan nilai yang <a href="https://henruite.com">diperlukan</a> untuk <a href="https://o-yate.com">mendapatkan</a> hasil yang konsisten dalam proses pembakaran fotoresist. Bahan substratnya ialah kuarsa – bahan yang dipilih kerana sifat pantulannya yang stabil serta kadar pelepasan gas yang rendah. Kuarsa juga mampu mengekalkan sifat pantulannya walaupun selepas ribuan kitaran pemanasan. Ia sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Proses pemasangan reflektor ini dilakukan sedemikian rupa agar tidak ada zarah tersisa, sehingga permukaan wafer tetap bersih. Prestasi reflektor ini kekal stabil walaupun setelah 5,000 jam beroperasi.</p> http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/underfill-curing-for-semiconductor-ir/ Wed, 24 Jun 2026 00:48:30 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ms/posts/underfill-curing-for-semiconductor-ir/ <p><img src="http://warm-ir-heater-expert.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Proses pengerasan lapisan underfill untuk semikonduktor IR"></p> <p>Di lantai pengeluaran, proses pengeringan menggunakan tenaga inframerah bukanlah proses yang berlaku secara berkelompok; sebaliknya, ia merupakan proses kawalan suhu yang perlu diurus dengan teliti. Jika terdapat kesilapan sedikit saja, masalah seperti ketidaksesuaian nilai CTE akan timbul, dan bahan tersebut akan rosak. Kami telah membina platform pengeringan menggunakan tenaga inframerah ini untuk menangani situasi sebegini.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Sistem ini mampu mengekalkan kestabilan suhu sekitar ±0.1°C pada keseluruhan permukaan substrat, dengan kawalan yang tepat untuk setiap zon. Reka bentuknya juga memenuhi standard bilik bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas yang banyak, sistem pengudaraan yang baik, serta permukaan dalaman yang memastikan penghasilan zarah-zarah kecil berada di bawah tahap 0.1/cm³.</p>