Mengeringkan on Expert Warm IR Heating Solutions

Lampu pengering wafer yang murah

Sat, 04 Jul 2026 04:19:11 +0800

Mengapa Lampu Inframerah Kelas OEM Adalah Pilihan Terbaik untuk Proses Pengeringan Wafer
Kami menghasilkan lampu pemanas inframerah kelas OEM untuk kegunaan pengeringan wafer. Sebenarnya, proses pengendalian wafer memerlukan haba yang kuat dan stabil, tanpa perlu menanggung kos yang berlebihan. Dalam proses pembungkusan dan ujian, kita memerlukan suhu yang konsisten serta operasi yang berterusan tanpa gangguan. Lampu kami memenuhi syarat-syarat ini, dengan reka bentuk yang praktikal dan sesuai untuk digunakan dalam keadaan industri sebenar.

Kuasa, Voltan, dan Saiz: Butiran Praktikal
Proses pengeringan wafer memerlukan haba yang banyak dalam ruang yang terhad. Oleh itu, kami merancang lampu kami agar dapat memberikan haba yang diperlukan tanpa menyusahkan sistem pengendalian anda. Reka bentuk lampu ini sesuai dengan standard panjang lampu biasa, jadi ia boleh dipasang dengan mudah pada peralatan sedia ada.

Panel inframerah untuk pengeringan wafer mengikut zon tertentu

Mon, 29 Jun 2026 02:27:24 +0800

Pada garis 300 mm, lapisan air yang masih melekat pada permukaan wafer selepas proses pembersihan akan merosakkan kualiti wafer tersebut. Kelembapan yang tinggal akan mengganggu struktur lapisan fotoresist, dan proses pengeringan yang tidak sekata akan menyebabkan kemunculan zarah-zarah kecil pada permukaan wafer.

Untuk mengatasi masalah ini, kami mencipta panel pengering inframerah yang membolehkan pengeringan wafer secara terkawal. Panel ini menggunakan haba berfrekuensi rendah untuk mengeringkan wafer tanpa menimbulkan tekanan pada lapisan fotoresist.

Lampu pengeringan wafer selepas pembersihan

Mon, 22 Jun 2026 18:47:59 +0800

Dalam proses pembuatan cip, langkah pengeringan yang dilakukan selepas pembersihan merupakan langkah penting untuk memastikan kualiti hasil pengeluaran. Sekiranya masih ada kelembapan pada wafer, ia akan menyebabkan masalah seperti kecacatan mikro pada permukaan wafer. Ini seterusnya akan menjejaskan kawalan ketebalan garisan pada cip tersebut, serta mengganggu proses pelekatan bahan fotoresist. Untuk mengatasi masalah ini, kami menggunakan lampu pengeringan yang mampu menghasilkan haba yang terkawal, bukan hanya haba secara rawak.

Apa yang sebenarnya penting dalam proses ini
Kami menggunakan teknologi pemanasan inframerah gelombang pendek (SWIR) untuk memindahkan tenaga dengan cepat dan terkawal ke wafer. Dengan cara ini, suhu wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Komponen lampu ini diperbuat daripada kuarsa, dan direka sedemikian rupa agar tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya semasa beroperasi. Ini membolehkan operasi berjalan dengan lancar dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100. Prestasi lampu ini juga konsisten sepanjang masa, sekali gus memastikan kualiti produk tetap stabil dari satu kumpulan pengeluaran ke kumpulan pengeluaran yang lain. Selain itu, lampu ini juga menyokong proses pemprosesan fotoresist dengan baik, tanpa menimbulkan masalah seperti suhu yang tidak stabil.