IR on Expert Warm IR Heating Solutions

Hujung kaca seramik untuk pemancar IR

Sat, 25 Jul 2026 02:25:55 +0800

Mengapa Penggunaan Penutup Keras dari Bahan Seramik Sangat Penting untuk Emitter Inframerah Anda

Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, kita tidak boleh membiarkan suhu menjadi terlalu tinggi. Kita memerlukan suhu yang tepat, dan ia perlu dicapai dengan cepat. Kebanyakan orang menggunakan emitter inframerah untuk mencapai peningkatan suhu yang cepat. Namun, masalahnya ialah di bahagian di mana elemen pemanasan bertemu dengan sumber tenaga. Itulah tempat di mana masalah sering berlaku.

Itulah sebabnya kita menggunakan penutup keras dari bahan seramik.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Fri, 24 Jul 2026 09:18:00 +0800

Hentikan alat semikonduktor daripada menjadi terlalu panas

Inilah masalahnya dengan lampu IR: ia memang sangat berkuasa. Namun, tenaga yang dihasilkan oleh lampu tersebut tidak tertumpu di tempat yang diinginkan. Jika tidak berhati-hati, haba tersebut akan menyebar ke seluruh bahagian mesin. Saya sudah melihat perkara ini berlaku berkali-kali. Apabila susunan komponen mesin tidak betul, dinding dalaman mesin akan menjadi sangat panas sehingga boleh membahayakan pengendali atau menyebabkan mesin berhenti berfungsi. Ini bukanlah cara yang baik untuk mengendalikan mesin.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:24:12 +0800

Hentikan pembaziran haba semasa proses pemprosesan wafer

Ketika anda memanaskan wafer silikon, setiap watt tenaga sangat penting. Namun, masalahnya ialah lampu IR biasa menghasilkan haba yang tersebar ke segala arah, bukannya ke tempat yang sepatutnya—iaitu permukaan wafer itu sendiri.

Kami menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan reflektor yang dilapisi emas. Dengan cara ini, haba tersebut dapat dipantulkan terus ke permukaan wafer, tanpa diserap oleh reflektor tersebut.

Mengapa emas?
Bukan kerana harganya yang mahal, tetapi kerana emas mampu memantulkan cahaya inframerah dengan lebih baik berbanding aluminium atau keluli yang telah dipoles. Dengan lapisan emas yang tipis ini, reflektor tidak akan menyerap haba tersebut. Kebanyakan haba tersebut akan kembali ke wafer. Anda akan mendapat aliran haba yang lebih tinggi, tanpa perlu meningkatkan voltan secara drastik. Selain itu, badan mesin juga akan kekal sejuk, kerana haba tersebut disalurkan ke cip, bukan ke badan mesin.

Proses pengerasan lapisan underfill untuk semikonduktor IR

Wed, 24 Jun 2026 00:48:30 +0800

Di lantai pengeluaran, proses pengeringan menggunakan tenaga inframerah bukanlah proses yang berlaku secara berkelompok; sebaliknya, ia merupakan proses kawalan suhu yang perlu diurus dengan teliti. Jika terdapat kesilapan sedikit saja, masalah seperti ketidaksesuaian nilai CTE akan timbul, dan bahan tersebut akan rosak. Kami telah membina platform pengeringan menggunakan tenaga inframerah ini untuk menangani situasi sebegini.

Apa yang penting dari segi teknikal
Sistem ini mampu mengekalkan kestabilan suhu sekitar ±0.1°C pada keseluruhan permukaan substrat, dengan kawalan yang tepat untuk setiap zon. Reka bentuknya juga memenuhi standard bilik bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas yang banyak, sistem pengudaraan yang baik, serta permukaan dalaman yang memastikan penghasilan zarah-zarah kecil berada di bawah tahap 0.1/cm³.