http://warm-ir-heater-expert.com/ja/tags/%E6%B8%85%E6%8E%83/ Recent content in 清掃 on Expert Warm IR Heating Solutions Hugo ja Mon, 22 Jun 2026 18:47:59 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ja/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Mon, 22 Jun 2026 18:47:59 +0800 http://warm-ir-heater-expert.com/ja/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://warm-ir-heater-expert.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="洗浄後のウェーハ乾燥ランプ"></p> <p>ファブでは、洗浄の直後に行われる乾燥工程が、歩留まりを守るために非常に<a href="https://o-yate.com">重要</a>です。ウェーハに残った水分は、後で微細な欠陥として現れ、これがリソグラフィーの精度に悪影響を与えます。ライン幅の制御が乱れたり、フォトレジストの密着性が低下したりします。私たちは、適切に設計された熱を供給するウェーハ乾燥ランプを使用して、この問題に対処しています。</p> <p><strong>実際に重要なのは何か</strong> 私たちは、短波長赤外線を利用して、ウェーハやキャリアに迅速かつ制御された形でエネルギーを送り込みます。これにより、ウェーハ全体の温度が±0.1℃以内に収まります。ランプモジュールは石英製で、クリーンな燃焼方式を採用しているため、安定動作時には粒子が発生しません。クリーンルームのクラス1～100でも問題ありません。出力も24時間安定しており、バッチごとに一貫した熱管理が可能です。また、フォトレジスト処理に必要なソフトベイクやハードベイクといった条件も正確に再現できます。</p>