Lampada per la cottura uniforme del photoresist

Wed, 10 Jun 2026 01:35:24 +0800

Sul piano di produzione, una deriva di 0,2°C durante il soft bake può compromettere molti pezzi. Si osserva un assottigliamento del photoresist ai bordi, variazioni nelle dimensioni critiche e capacità di litografia inutilizzata. Questa lampada per bake è stata progettata per impedire che quella deriva si manifesti.

Ciò che conta, a livello tecnico, è che il profilo di bake venga ingegnerizzato intorno al wafer, non alla camera. La lampada mantiene un’uniformità termica a livello del wafer entro ±0,1°C su tutto il diametro, stabilizza rapidamente e si ripete da lotto a lotto. Gli elementi riscaldanti in fibra di carbonio e l’ottica NIR assicurano una risposta stabile e rapida senza punti caldi. Funziona in camere bianche Class 1–100 e non genera particelle, come validato dal monitoraggio particellare in-situ. Progettata per funzionamento 7×24, ha registrato zero downtime imprevisti in migliaia di cicli e la potenza rimane stabile oltre 5.000 ore.

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Lampada per la cottura uniforme del photoresist