Pannello on Expert Warm IR Heating Solutions

Pannello a infrarossi per essiccazione di wafer zonato

Mon, 29 Jun 2026 02:27:23 +0800

Nella linea da 300 mm, una sottile pellicola d’acqua rimasta dopo la pulizia può compromettere l’efficienza del processo di produzione. L’umidità residua altera il profilo del fotorestatore, mentre un essiccazione irregolare rappresenta un fattore che favorisce la formazione di particelle.

Per risolvere questo problema, abbiamo progettato un pannello a infrarossi per l’essiccazione delle wafer, in grado di sostituire il calore generato da fasci luminosi ampi con un calore controllato e localizzato, in modo da essiccare la wafer senza danneggiare la pellicola presente su di essa.

Lampa a infrarossi per la saldatura dei pannelli tattili

Sat, 27 Jun 2026 01:13:09 +0800

Nel contesto in cui operiamo, il “budget termico” non è una semplice raccomandazione: è un limite che non si può superare. Un piccolo errore durante la cottura del photoresist può far sì che l’uniformità della superficie del CD venga compromessa. Un punto freddo durante il processo di essiccazione del wafer può causare problemi legati alla formazione di bolle sulla superficie del wafer stesso. Abbiamo progettato questa lampada a infrarossi per funzionare proprio in queste condizioni difficili, fornendo calore stabile e localizzato esattamente dove è necessario.