Riscaldatore per la lavorazione dei wafer ottici

Tue, 30 Jun 2026 01:21:24 +0800

Nella fase di cottura dei wafer, è proprio in questo passaggio che dipende il successo del processo. Se la temperatura di cottura varia di 2°C, le dimensioni critiche del wafer iniziano a variare di alcuni nanometri. Se invece la temperatura di cottura non è uniforme, si verificano problemi legati all’adesione dei materiali sul wafer. I riscaldatori ottici risolvono questi problemi, garantendo un controllo termico preciso, con il wafer stesso che funge da sensore.

Ciò che è importante
Abbiamo progettato questi riscaldatori utilizzando sorgenti a infrarossi a breve lunghezza d’onda e finestre di quarzo, in modo da adattarli alle caratteristiche di assorbimento del silicio e del fotoresistente. Il risultato è un livello di uniformità della temperatura entro ±0,1°C su tutta l’area attiva del wafer; inoltre, la stabilità della temperatura sotto carico è superiore a ±0,5°C. La velocità di aumento della temperatura può raggiungere i 10°C/s, riducendo così il consumo energetico senza causare stress ai materiali presenti sul wafer.

Elaborazione on Expert Warm IR Heating Solutions

Riscaldatore per la lavorazione dei wafer ottici