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		<title>Nettoyage on Expert Warm IR Heating Solutions</title>
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				<title>Lampe de séchage des wafer après nettoyage</title>
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				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-expert.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampe de séchage des wafer après nettoyage&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans le processus de fabrication, l’étape de séchage, qui suit immédiatement le nettoyage, est cruciale : c’est à ce moment-là que l’on décide si le produit final sera de bonne qualité ou non. Toute humidité restante sur la wafer se transforme par la suite en micro-défauts, ce qui affecte négativement la lithographie : le contrôle de la largeur des lignes devient difficile, et l’adhérence du photorésistant est compromise. Nous remédions à ce problème grâce à des lampes de séchage qui fournissent une chaleur ciblée, sans avoir recours à des réglages approximatifs.&lt;/p&gt;</description>
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