Chauffeur de cuisson post exposition (PEB)

Wed, 17 Jun 2026 11:10:55 +0800

Dans le domaine de la lithographie, c’est l’uniformité de la température du PEB sur toute la surface de la wafer qui détermine réellement le contrôle de la différence de diamètre des couches et leur superposition. Même une déviation de quelques dizaines de milli-degrés peut perturber l’amplification chimique du photo-résistant, modifier les paramètres de polarisation et altérer la sélectivité de l’usinage. Cela signifie que des heures de travail peuvent être gaspillées en vain pour des raisons liées à ces fluctuations de température.

Lampe de cuisson pour photo résist uniforme

Wed, 10 Jun 2026 01:35:24 +0800

Sur le terrain de fabrication, un écart de 0,2 °C lors du soft bake peut entraîner un taux élevé de rebut. On observe un amincissement du photoresist en périphérie, une dispersion des dimensions critiques, et une capacité lithographique gaspillée sans résultat. Cette lampe de cuisson a été conçue pour empêcher cet écart avant son apparition.

Ce qui importe techniquement, c’est que nous concevons le profil de cuisson autour de la plaquette, et non de la chambre. La lampe maintient une uniformité thermique au niveau de la plaquette dans ±0,1 °C sur tout le diamètre, atteint sa température rapidement, et répète les performances de lot en lot. Les éléments chauffants en fibre de carbone et l’optique NIR assurent une réponse stable et rapide sans points chauds. Elle fonctionne en salles blanches Class 1–100 et ne génère aucune particule — validé par une surveillance particulaire in-situ. Conçue pour fonctionner 7×24, elle a enregistré zéro arrêt non planifié sur des milliers de cycles, et sa puissance reste stable au-delà de 5 000 heures.

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Chauffeur de cuisson post exposition (PEB)

Lampe de cuisson pour photo résist uniforme