Calentador de post exposición (PEB)

Wed, 17 Jun 2026 11:10:55 +0800

En la planta de litografía, lo que realmente determina el control del espaciado entre líneas y la precisión en el proceso es la uniformidad de temperatura en todo el área de la oblea. Incluso un desvío de unos pocos décimos de grado puede afectar la amplificación química del fotoreactivos, cambiar los valores de voltaje necesarios para el proceso y alterar la selectividad durante el proceso de grabado. Y eso significa que se pierden horas valiosas en procesos de exposición y medición, sin obtener ningún resultado útil.

Lámpara de horneado uniforme para fotorresiste

Wed, 10 Jun 2026 01:35:24 +0800

En planta, una deriva de 0.2°C en el soft bake puede arruinar mucho. Se observa el adelgazamiento del fotoresiste en el borde, las dimensiones críticas se dispersan y la capacidad de litografía se desperdicia. Esta lámpara de horneado fue diseñada para detener esa deriva antes de que aparezca.

Lo que importa, técnicamente, es que diseñamos el perfil de horneado alrededor del wafer, no de la cámara. La lámpara mantiene la uniformidad térmica a nivel de wafer dentro de ±0.1°C en todo el diámetro, se estabiliza rápido y repite resultado de lote a lote. Los elementos calefactores de fibra de carbono y la óptica NIR proporcionan una respuesta estable y rápida sin puntos calientes. Funciona en salas limpias Clase 1–100 y genera cero partículas, validado con monitoreo in situ de partículas. Calificada para operación 7×24, ha entregado cero paradas no planificadas a lo largo de miles de ciclos, y su salida se mantiene estable por más de 5,000 horas.

Hornear on Expert Warm IR Heating Solutions

Calentador de post exposición (PEB)

Lámpara de horneado uniforme para fotorresiste