Wafer Trocknungslampe nach der Reinigung

Mon, 22 Jun 2026 18:47:58 +0800

In der Fabrik ist die Trocknungsphase direkt nach der Reinigung entscheidend – sie bestimmt dabei, ob die Qualität der Wafer erhalten bleibt oder nicht. Jede noch vorhandene Feuchtigkeit auf der Wafer führt später zu Mikrofehlern, was wiederum negative Auswirkungen auf den Lithografieprozess hat: Die Kontrolle der Linienbreite wird schwieriger, und die Haftung des Photoresists leidet. Um dieses Problem zu lösen, verwenden wir Lampen, die gezielte Wärme abgeben – ohne willkürliche Einstellungen.

Was wirklich wichtig ist Wir nutzen Kurzwellen-Infrarotstrahlung, um eine schnelle und kontrollierte Energieübertragung auf die Wafer und Trägermaterialien zu gewährleisten. Dadurch wird eine thermische Homogenität von ±0,1°C erreicht. Der Lampenmodul ist aus Quarz gefertigt und lässt sich sauber betreiben – dadurch entstehen während des Betriebs keine Partikel. In Reinräumen der Klassen 1–100 ist das kein Problem. Die Leistung bleibt zu jeder Zeit konstant, was eine stabile Prozessqualität gewährleistet. Zudem unterstützen diese Lampen die für den Photoresistprozess benötigten Trocknungsmethoden – ohne Überschreitung der vorgegebenen Parameter.

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Wafer Trocknungslampe nach der Reinigung