Zonales Wafer Trocknungs Infrarotpanel

Mon, 29 Jun 2026 02:27:22 +0800

Auf der 300-mm-Linie führt eine dünne Wasserfilm-Schicht, die nach der Reinigung zurückbleibt, dazu, dass die Erträge sinken. Restfeuchtigkeit stört das Profil des Fotoleitmittels – außerdem führt eine ungleichmäßige Trocknung dazu, dass sich Partikel bilden können.

Um dieses Problem zu lösen, haben wir ein Infrarot-Trocknungsmodul entwickelt, das statt breitstrahlender Hitze kontrollierte, lokalisierte Energie nutzt, um das Wafer trockenzuhalten, ohne den Film zu belasten. Das Modul arbeitet mit kurzwelligen Infrarotemitttern, die in eigenständig steuerbaren Zonen angeordnet sind. Jede Zone gewährleistet eine Homogenität der Temperatur auf der Oberfläche des Wafer von ±0,1 °C – dadurch bleibt das thermische Gleichgewicht erhalten und die Ergebnisse sind wiederholbar.

Touch Panel Klebeinfrarotlampe

Sat, 27 Jun 2026 01:13:09 +0800

Im Einsatz ist der thermische Budgetwert keine Empfehlung – es handelt sich dabei vielmehr um eine Grenze, die unbedingt eingehalten werden muss. Schon eine kleine Abweichung bei der Erhitzung des Photoresists führt dazu, dass die Gleichmäßigkeit der Struktur beeinträchtigt wird. Ein kalter Punkt während des Trocknens der Wafer bedeutet wiederum, dass man sich mit Problemen bezüglich der Ränder beschäftigen muss. Wir haben die Infrarotlampe für den Einsatz in solchen Situationen entwickelt – sie sorgt dafür, dass die Wärme genau dort angebracht wird, wo sie benötigt wird.

Panel on Expert Warm IR Heating Solutions

Zonales Wafer Trocknungs Infrarotpanel

Touch Panel Klebeinfrarotlampe