Heilung on Expert Warm IR Heating Solutions

Zertifizierter Hersteller von Infrarot Härtungslampen

Wed, 29 Jul 2026 03:28:54 +0800

Sichere Arbeitsbedingungen bei der Verarbeitung von flüchtigen Chemikalien
Seien wir ehrlich: Die Verwendung von Infrarot-Kurzwellenlampen in der Nähe brennbarer Lösungsmittel ist eine äußerst gefährliche Praxis. Schon eine kleine Funke oder ein beschädigter Quarztubus können zu einer Explosion führen. Das ist eine Gefahr, die die Betreiber von Produktionsanlagen nachts wachhält.

Deshalb bauen wir diese Lampen nicht einfach so – wir umhüllen sie mit einem schützenden Gehäuse, das diese Brandgefahren bereits im Keim erstickt.

Die Gefahren beseitigen
Die meisten Standard-Infrarotlampen sind ziemlich anfällig für Schäden. Ihre elektrischen Anschlüsse sowie die Quarztuben sind einfach ungeschützt. In einer Umgebung mit Chemikalien ist das ein Rezept für Katastrophen.

Reflektor für Wafer Aushärtungslampe

Fri, 26 Jun 2026 01:13:05 +0800

Im Produktionsraum kann eine Abweichung von 1 °C während des Weichbrennvorgangs oder des Hartbrennvorgangs dazu führen, dass kritische Dimensionen um Nanometer verändert werden – und das reicht bereits aus, um viele Produkte als unbrauchbar zu betrachten. Wir haben unseren Reflektor so konstruiert, dass er die Unsicherheiten im thermischen Prozess ausgleichen kann.

Was wirklich wichtig ist: Der Reflektor ist auf kurzwellige Infrarothalogenquellen abgestimmt – dadurch wird eine schnelle, gezielte Energieabgabe mit präziser spektraler Kontrolle erreicht. Die Temperaturhomogenität auf der Waferoberfläche liegt bei ±0,1 °C innerhalb der Brennzone – genau das, was man für reproduzierbare Ergebnisse beim Photoresist-Verfahren benötigt. Das Substrat besteht aus Quarz – dieser Materialtyp zeichnet sich durch eine stabile Reflexion sowie ein geringes Ausgasen aus. Zudem behält der Quarz seine Reflexionsfähigkeit auch nach Tausenden von thermischen Zyklen bei. Der Reflektor eignet sich für Reinräume der Klassen 1–100. Die Konstruktion sorgt außerdem dafür, dass keine Partikel entstehen, wodurch die Oberflächenkontamination unter den erforderlichen Grenzwerten bleibt. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg bei weniger als 2 % – somit kann der Reflektor Schicht für Schicht weiterhin effektiv eingesetzt werden.

Aushärtung des Underfills für Halbleiter IR

Wed, 24 Jun 2026 00:48:30 +0800

In der Fertigungsstätte ist die Aushärtung des Unterfüllmaterials keine schrittweise Prozedur – es handelt sich vielmehr um einen thermischen Prozess, den man genau steuern muss. Wenn man auch nur einen kleinen Fehler macht, treten Unterschiede im Coefficient of Thermal Expansion auf, es entstehen Lücken im Material, und das Bauteil landet schließlich im Abfallhaufen. Unsere IR-Härtplattform wurde genau für solche Situationen entwickelt.

Was technisch wichtig ist:
Das System gewährleistet eine Konstanz von ±0,1°C über die gesamte Fläche des Substrats – mit präziser Steuerung nach Zone. Eine Reinraumklasse von 1–100 ist bereits in die Konstruktion integriert: Materialien mit geringer Gasausströmung, HEPA-Filter für die Luftzirkulation sowie eine innere Oberflächenbeschaffenheit, die die Partikelbildung auf unter 0,1/cm³ reduziert.